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高光譜成像儀的種類及發(fā)展趨勢(shì)探討

發(fā)布時(shí)間:2023-04-12
瀏覽次數(shù):641

?作為一種光譜成像工具——高光譜成像儀,它具有處理,再現(xiàn)和可視化等應(yīng)用特點(diǎn),方便人們直觀的對(duì)圖像進(jìn)行分析。在對(duì)光譜圖像進(jìn)行分析處理的同時(shí)可以獲得光譜信息與圖像信息,光譜成像技術(shù)因此也是光譜分析與圖像分析的有機(jī)結(jié)合,在目前市場(chǎng)成為更具有優(yōu)勢(shì)的技術(shù)。本文對(duì)高光譜成像儀的種類及發(fā)展趨勢(shì)進(jìn)行了探討,感興趣的朋友可以了解一下!

作為一種光譜成像工具——高光譜成像儀,它具有處理,再現(xiàn)和可視化等應(yīng)用特點(diǎn),方便人們直觀的對(duì)圖像進(jìn)行分析。在對(duì)光譜圖像進(jìn)行分析處理的同時(shí)可以獲得光譜信息與圖像信息,光譜成像技術(shù)因此也是光譜分析與圖像分析的有機(jī)結(jié)合,在目前市場(chǎng)成為更具有優(yōu)勢(shì)的技術(shù)。本文對(duì)高光譜成像儀的種類及發(fā)展趨勢(shì)進(jìn)行了探討,感興趣的朋友可以了解一下!

高光譜成像儀

高光譜成像儀的種類:

由于分光的原理不同,高光譜成像技術(shù)可以分為:干涉型、調(diào)諧型、棱鏡光柵色散型、三維成像型、計(jì)算層析型、二元光學(xué)元件型、濾光片型光譜技術(shù)等。以下主要簡(jiǎn)單介紹幾種成像光譜技術(shù)。

1)較早出現(xiàn)的光譜成像技術(shù)——棱鏡、光柵色散型

經(jīng)過(guò)棱鏡和光柵狹縫發(fā)生色散后,其入射光在光學(xué)系統(tǒng)的前焦面上,其光束由光學(xué)系統(tǒng)準(zhǔn)直后,在探測(cè)器的不同位置上按波長(zhǎng)大小順序成像。

在擺掃型(whiskbroom)和推掃型(pushbroom)的成像光譜儀里,分為線列與面陣的色散類型,其原理如下圖所示。

擺掃型和推掃型的成像光譜儀原理結(jié)構(gòu)圖

擺掃型光譜儀可以在勘測(cè)某一時(shí)刻視場(chǎng)內(nèi)目標(biāo)點(diǎn)的光譜分布中使用。由線列探測(cè)器輸出同一空間像元的所有光譜分布。

2)干涉型成像光譜儀——邁克爾遜干涉儀

目前,干涉成像光譜技術(shù)在遙感領(lǐng)域中,利用邁克爾遜干涉法、三角共路干涉法、雙折射干涉法三種方法來(lái)獲得像元輻射干涉圖。由于邁克爾遜干涉儀應(yīng)用較為廣泛,故作為主要方面介紹。

下圖為邁克爾遜干涉儀的原理圖,為了使時(shí)間序列發(fā)生干涉,必須由動(dòng)鏡來(lái)機(jī)械掃描,由傅立葉變換理論來(lái)得出相應(yīng)物面像元輻射的光譜圖像。

邁克爾遜型成像光譜儀原理圖

3)濾光片型成像光譜儀

由于本文主要研究聲光可調(diào)濾波器,故將濾光片型的光譜儀進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明??烧{(diào)諧濾光片型、光楔濾光片型都屬于濾光片型成像光譜儀。其中聲光可調(diào)諧、液晶可調(diào)諧、電光可調(diào)諧等濾光片都屬于可調(diào)諧濾光片型中。目前主要使用聲光和液晶可調(diào)諧,濾光片。其制作構(gòu)成原理很簡(jiǎn)單,只需將相機(jī)與濾光片的方案相互結(jié)合,再加入成像CCD 就可構(gòu)成完整的裝置設(shè)備。

其中,液晶調(diào)諧類的波長(zhǎng)切換時(shí)間較長(zhǎng),調(diào)制速度較慢,而聲光調(diào)諧類的成像光譜剛好彌補(bǔ)了這一方面的空缺,其具有良好的光學(xué)性能、調(diào)制速度較快,但是其聲光衰減較低,這是由于其特殊的光學(xué)材料所導(dǎo)致,盡管如此,聲光品質(zhì)因數(shù)依然較高,在對(duì)地物觀測(cè)時(shí)能夠獲取良好的光譜圖片,及信息識(shí)別。聲光可調(diào)濾波器(AOTF)利用反常布拉格調(diào)制原理,及電信號(hào)驅(qū)動(dòng)頻率與衍射光波長(zhǎng)之間的調(diào)諧關(guān)系,即聲波的頻率由電子信號(hào)調(diào)節(jié)控制,則在可見光波段或者紅外波段完成連續(xù)的光譜掃描,下圖所示為非共線聲光可調(diào)諧濾光器的晶體與工作原理結(jié)構(gòu)圖。

非共線聲光可調(diào)濾波器的晶體與工作原理結(jié)構(gòu)


高光譜成像儀的發(fā)展趨勢(shì):

對(duì)未來(lái)的發(fā)展趨勢(shì),高光譜成像技術(shù)主要為四個(gè)方面來(lái)發(fā)展:

(1)通過(guò)對(duì)大量物質(zhì)光譜特征的獲取,建立標(biāo)準(zhǔn)的數(shù)據(jù)庫(kù)。

(2)新物質(zhì)、新技能的發(fā)展標(biāo)志著成像光譜儀的誕生,它輕小性能更好。

(3)大量傳感器、存儲(chǔ)介質(zhì)、讀出電路等技能的發(fā)展,促進(jìn)超光譜成像技術(shù)向更高方向發(fā)展。

(4)更高效、快捷處理光譜、圖像數(shù)據(jù),滿足進(jìn)一步實(shí)時(shí)處理的需要問(wèn)。

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